半导体离子注入

离子件方案
    半导体离子注入技能是一种质料外表改性高新技能，在半导体质料掺杂，金属、陶瓷、高分子聚合物等的外表改性上取得了极为普遍的使用，在今世制造大范围集成电路中，可以说是一种必不行少的手腕。

根本原理：
用能量为100keV量级的离子束入射到质料中去，离子束与质料中的原子或分子将产生一系列物理的和化学的互相作用，入射离子渐渐丧失能量，最初停顿在质料中，并惹起质料外表身分、布局和功能产生变革，从而优化质料外表功能，或取得某些新的优秀功能。

离子注入的好处是能准确控制杂质的总剂量、深度散布和面匀称性，并且是高温工艺（可避免原来杂质的再分散等），同时可完成自瞄准技能（以减小电容效应）。 
 
作为一种质料外表工程技能，离子注入技能具有以下一些别的惯例外表处置技能难以到达的共同好处：

纯洁的无公害的外表处置技能
无需在低温情况下举行，无需热激活，不会改动工件的形状尺寸和外表光亮度
与基体之间不存在剥落题目

        
 

离子注入后无需再举行机器加工和热处置

北京j9九游会钨钼科技有限公司为客户提供大束流、中束流、高能离子源用钨钼精细部件。 
 

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